ASTM F66-1984(1990) 微电子器件制造用光敏抗蚀剂的试验方法

作者:标准资料网时间:2024-04-30 22:03:01 浏览:9075 来源:标准资料网

【英文标准名称】:TestMethodsforTestingPhotoresistsUsedinMicroelectronicFabrication
【原文标准名称】:微电子器件制造用光敏抗蚀剂的试验方法
【标准号】:ASTMF66-1984(1990)
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:1984
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:电子工程;光导电池;微电子学;生产;试验
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:L04
【国际标准分类号】:87_040
【页数】:
【正文语种】:

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标准名称：	耐酸泵用机械密封
中标分类：	机械 >> 通用零部件 >> 密封与密封装置
替代情况：	被JB/T 7372-2011代替
发布部门：	中华人民共和国机械工业部
发布日期：	1994-07-26
实施日期：	1995-07-01
首发日期：	1900-01-01
作废日期：	2011-08-01
提出单位：	机械工业部合肥通用机械研究所
归口单位：	机械工业部合肥通用机械研究所
起草单位：	化学工业部化工机械研究院、奉化机械密封件厂、大连耐酸泵厂、合肥通用机械研究所
起草人：	刘世龙、周人毅、赵锦文、石富江、王天勇、魏金霞、梁海波、刘晓春、车运
出版日期：	1900-01-01
页数：	12页
批文号：	机械科[1994]614号